儀器介紹：

 華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?， 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是目前理想的一種高真空退火爐。

 它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰ΑＭ娮锠t和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系，an全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作！

儀器原理：

 原理為加熱絲或桂碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。

 高真空退火爐的反射鏡是具有曲率，采用5軸加工系統(tǒng)加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試。

設(shè)備優(yōu)勢(shì)：

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度控制

過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式）此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

1、反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快。

2、可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測(cè)量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度；

（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。

3、其他配置：

儀器試樣試驗(yàn)：

多應(yīng)用：

樣品腔內(nèi)徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm

1、電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無(wú)機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

3、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000°c以下）

大氣氣體熔化過(guò)程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4、復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5、其他

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐

高真空退火爐/*材料測(cè)試儀

高真空退火爐/*材料測(cè)試儀